Goodbye Redness Centella Mask - Plump Skin - K-Beauty en México

Goodbye Redness Centella Mask

BENTON

$ 70.00 Oferta

Esta sheet mask está hecha para eliminar el enrojecimiento, la irritación y otros problemas relacionados con la piel sensible. Proporciona una hidratación instantánea y calma y protege la piel irritada, manchada y con picazón gracias a sus ingredientes principales: 
  • Centella Asiatica Leaf Water & Extract: 45% del contenido de esta mascarilla, calma y acelera la cicatrización.
  • Ácido hialurónico: hidrata profundamente y mantiene los niveles de humedad de la piel.
Recomendada para:
  • Piel con poco balance aceite-agua.
  • Piel que necesita hidratación instantánea.
  • Piel irritada y rojiza.
  • Piel seca y que pica.
  • Piel que necesita un producto fresco sin aceite.
  • Piel sensible a ambientes nocivos y químicos.
No contiene fragancia artificial, alcohol volátil, PEG y ningún ingrediente dañino. Tiene un pH ligeramente ácido que es agradable para la piel.

 

Tipo de piel

  • Todas, especialmente sensibles.

Uso 

  1. Aplica la mascarilla ajustando a tu rostro.
  2. Aplica durante 20-30 minutos y después remuévela.
  3. Da suaves palmaditas en la piel para que pueda absorberse la esencia restante de la mascarilla.

Uso en rutina:

Después de limpiar y tonificar el rostro. Si te aplicas otro paso, consulta la rutina completa aquí.

Ingredientes

Centella Asiatica Leaf Water, Aqua, Glycerin, Pentylene Glycol, Butylene Glycol, Microcrystalline Cellulose, Centella Asiatica Extract, Sodium Gluconate, Sodium Hyaluronate, Propanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Asiatic acid, Madecassic Acid, Asiaticoside, Madecassoside, Portulaca Oleracea Extract, Xanthan Gum, Cellulose Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydrogenated Phosphatidylcholine, 1,2-Hexanediol, Sucrose Stearate, Cetearyl Alcohol